摘要： 本發(fā)明提供了一種低頻BOSCH深硅刻蝕方法，該方法將BOSCH工藝和低頻LF工藝相結(jié)合，采用低頻脈沖功率源作為刻蝕工藝的下電極功率輸入。該方法包括：紫外光刻膠圖形的制備；各向異性刻蝕；各向同性沉積；刻蝕與沉積步驟交替進(jìn)行N個周期；去除光刻膠。本發(fā)明的低頻刻蝕工藝，能穩(wěn)定地應(yīng)用于不同圖形、不同面積的硅的深刻蝕，能很好地控制刻蝕關(guān)鍵尺寸、陡直度，不宜出現(xiàn)長草現(xiàn)象，具有較高的選擇比。

摘要： 一種方法被提供用于在具有操作壓強和工作偏壓的等離子體處理室中蝕刻硅。該方法包括：在硅中執(zhí)行第一垂直蝕刻來創(chuàng)建具有第一深度和側(cè)壁的孔；在側(cè)壁上執(zhí)行保護(hù)層的沉積；執(zhí)行第二垂直蝕刻來將孔加深到第二深度并創(chuàng)建第二側(cè)壁，所述第二側(cè)壁包括第一槽、第二槽和峰，所述第一槽對應(yīng)于所述第一側(cè)壁，所述第二槽對應(yīng)于所述第二側(cè)壁，所述峰被配置在所述第一槽和所述第二槽之間；執(zhí)行第三蝕刻，以使所述峰縮小。

摘要： 一種Bosch刻蝕方法，包括：固定基片到反應(yīng)腔內(nèi)的基座，在所述基片上形成有具有開口的掩膜層；進(jìn)行刻蝕步驟，通入刻蝕氣體，施加源射頻功率源到反應(yīng)腔以維持反應(yīng)腔內(nèi)的等離子濃度，同時施加第一偏置功率源到所述基座，沿開口刻蝕部分所述基片形成刻蝕孔；進(jìn)行沉積步驟，通入沉積氣體，施加第二偏置功率源到所述基座，在刻蝕孔的側(cè)壁表面和掩膜層表面沉積形成聚合物，第二偏置功率源的頻率大于第一偏置功率源的頻率；重復(fù)刻蝕步驟和沉積步驟，直至在所述基片中形成通孔。本發(fā)明的Bosch刻蝕方法，在保證刻蝕速率的同時，穩(wěn)定性較高。

摘要： 本發(fā)明公開了一種Bosch工藝的工藝參數(shù)的監(jiān)控方法、系統(tǒng)和存儲介質(zhì)。包括：獲取父配方信息中包括的若干子配方以及每個子配方的循環(huán)次數(shù)；每個子配方均執(zhí)行下述步驟：S110、設(shè)定當(dāng)前子配方的各工藝步驟的采樣點；S120、分別獲取相同工藝步驟在不同循環(huán)次數(shù)時，執(zhí)行到采樣點時的變化量參數(shù)實際值；S130、將各變化量參數(shù)實際值與對應(yīng)的工藝步驟的變化量參數(shù)設(shè)定值進(jìn)行容差比較，以得出各采樣點的合法性；S140、根據(jù)各采樣點的合法性判斷是否需要輸出容差報警。可以有效監(jiān)控工藝過程中的變化量參數(shù)的變化情況，從而可以根據(jù)變化量參數(shù)的變化情況對當(dāng)前工藝過程進(jìn)行調(diào)整，進(jìn)而可以避免廢片現(xiàn)象發(fā)生，提高晶片的生產(chǎn)良率，降低晶片的制作成本。

摘要： 本發(fā)明提供了一種低頻BOSCH深硅刻蝕方法，該方法將BOSCH工藝和低頻LF工藝相結(jié)合，采用低頻脈沖功率源作為刻蝕工藝的下電極功率輸入。該方法包括：紫外光刻膠圖形的制備；各向異性刻蝕；各向同性沉積；刻蝕與沉積步驟交替進(jìn)行N個周期；去除光刻膠。本發(fā)明的低頻刻蝕工藝，能穩(wěn)定地應(yīng)用于不同圖形、不同面積的硅的深刻蝕，能很好地控制刻蝕關(guān)鍵尺寸、陡直度，不宜出現(xiàn)長草現(xiàn)象，具有較高的選擇比。

摘要： 一種方法被提供用于在具有操作壓強和工作偏壓的等離子體處理室中蝕刻硅。該方法包括：在硅中執(zhí)行第一垂直蝕刻來創(chuàng)建具有第一深度和側(cè)壁的孔;在側(cè)壁上執(zhí)行保護(hù)層的沉積；執(zhí)行第二垂直蝕刻來將孔加深到第二深度并創(chuàng)建第二側(cè)壁，所述第二側(cè)壁包括第一槽、第二槽和峰，所述第一槽對應(yīng)于所述第一側(cè)壁，所述第二槽對應(yīng)于所述第二側(cè)壁，所述峰被配置在所述第一槽和所述第二槽之間；執(zhí)行第三蝕刻，以使所述峰縮小。

摘要： 一種Bosch刻蝕方法，包括：固定基片到反應(yīng)腔內(nèi)的基座，在所述基片上形成有具有開口的掩膜層；進(jìn)行刻蝕步驟，通入刻蝕氣體，施加源射頻功率源到反應(yīng)腔以維持反應(yīng)腔內(nèi)的等離子濃度，同時施加第一偏置功率源到所述基座，沿開口刻蝕部分所述基片形成刻蝕孔；進(jìn)行沉積步驟，通入沉積氣體，施加第二偏置功率源到所述基座，在刻蝕孔的側(cè)壁表面和掩膜層表面沉積形成聚合物，第二偏置功率源的頻率大于第一偏置功率源的頻率；重復(fù)刻蝕步驟和沉積步驟，直至在所述基片中形成通孔。本發(fā)明的Bosch刻蝕方法，在保證刻蝕速率的同時，穩(wěn)定性較高。

摘要： 本實用新型公開了一種基于BOSCH工藝的PD隔離結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括采用Bosch工藝成形于PD陣列結(jié)構(gòu)的PD有源區(qū)之間的溝槽，所述溝槽內(nèi)填充有隔離材料，所述溝槽的深度延伸至PD陣列結(jié)構(gòu)的襯底。本實用新型通過在PD有源區(qū)之間使用Bosch工藝，可以根據(jù)不同的波長刻蝕不同尺寸的溝槽，并填充TIN以起到隔離光線和電流的作用，能夠?qū)D陣列結(jié)構(gòu)起到避免串?dāng)_的作用。

摘要： 一種BOSCH系列汽車整流器正極導(dǎo)電板結(jié)構(gòu)，采用鋁壓鑄的工藝加工成型。該正極導(dǎo)電板面積大，散熱筋數(shù)量多，通風(fēng)散熱效果好。通過散熱筋散熱來降低導(dǎo)電極板的溫度，保證裝配在上面的二極管正常工作，可提高汽車整流器的可靠性，延長整個整流器的使用壽命。